HBM混合键合凉了！三星、SK海力士急刹车：HBM4用不上 HBM5也悬

短期内混合键合不会大规模部署，混合键合凉K海混合键合的力士无凸点减薄优势不再紧迫。两家公司正重新评估采用混合键合的急刹时机，

SK海力士则推出iHBM技术，用不也悬即使到HBM4E阶段，混合键合凉K海

业内判断，力士12层产品仍极有可能被用作主流产品。急刹

目前客户和内存制造商并未积极讨论16层HBM的用不也悬问题。导热硅冷却元件嵌入D2D PHY层，混合键合凉K海无需使用凸点，力士可从堆叠内部带走热量。急刹届时必须采用混合键合以实现更高密度连接。用不也悬

散热问题也有了更简单的混合键合凉K海替代方案。称可较现有产品降低超过30%热阻。力士当前HBM4的急刹I/O数量已翻倍至2048个。三星开发了HPB热通道模块，现有TC热压合工艺将因凸点横向扩散而难以支撑，不过混合键合的研发并未停滞。据报道，三星电子与SK海力士在引入混合键合技术，

16层以上高堆叠产品的需求并不紧迫，

即使到HBM5也可能暂不采用。这进一步延缓了混合键合的规模化部署。将电绝缘、以实现下一代高带宽存储器方面正面临日益严峻的挑战。

7月6日消息，行业分析师指出，然而，JEDEC正在讨论将HBM5的厚度标准从当前的775微米放宽至最高约1000微米。

混合键合技术直接连接DRAM芯片间的铜线，HBM4已放宽至775微米。有助于减小HBM厚度并改善散热。

若未来HBM5E阶段I/O进一步翻倍至4096个，

而HBM3E标准厚度为720微米，在封装内部加入独立热柱，但中长期当I/O密度再次爆炸时仍是发展方向。两家公司计划从HBM5开始应用各自方案。厚度标准松动后，

混合键合技术在下一代HBM上的全面应用可能比预期进一步延迟。